南华早报消息，今年11月份，中国从荷兰进口的关键芯片制造光刻系统的价值激增了1050%，这表明在美国收紧出口规定之后，中国国内半导体公司尚未被切断接收某些先进设备订单的渠道。
相比之下，10 月份中国进口了 21 台光刻系统，价值 6.725 亿美元。平均单价相差46%，这表明中国企业正在继续获得更先进的系统，尽管华盛顿一直试图阻挠这种努力。
荷兰是光刻机的最大出口国，光刻机用于制造世界上最先进的芯片，几乎所有的光刻机都来自一家公司–ASML。
南早说，11 月份，中国总共进口了 42 台光刻系统，总价值达 8.168 亿美元。其中15台来自日本，日本是业界重量级企业佳能（Canon）和尼康（Nikon）的总部所在地。荷兰和日本加在一起，几乎占据了中国上个月进口光刻机的全部金额。
据该报介绍，光刻工具是一种复杂的投影系统，是集成电路制造过程中所需的10类设备中最重要的一类。中国在这项技术上被认为落后多年，虽然政府投入了大量资金，但在很大程度上仍未能缩小与领先企业的差距。
美国商务部在10月份扩大了针对中国的出口管制规则后，中国的进口量连续两个月飙升。在有关光刻系统的部分，美国废除了适用于某些深紫外线（DUV）工具的”微量”规则，该规则比荷兰政府9月份生效的出口规则设定了更高的标准。
南早说，如果非美国公司的任何产品含有至少25%的美国原产技术，则微量规则赋予华盛顿对该产品的长臂管辖权。
然而，该规则的最新调整实质上使得此类技术的比例变得无关紧要。新规定从上月起生效，限制总部位于荷兰的ASML公司向中国（该公司的第三大市场）少数从事先进半导体制造的工厂出售某些浸没式 DUV 光刻系统，包括其 Twinscan NXT:1980Di 光刻系统。
不过，ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示，最新的限制措施将绝大多数中国客户排除在外，因为这些客户涉足的是成熟或传统的半导体制造，即28纳米及以上的半导体制造。
