【加拿大乐活网LAHOO.CA 综合讯】据科技媒体《The Information》7月27日报道，一家总部设在上海、有政府背景的企业已启动浸没式深紫外（DUV）光刻机的有限量产。消息导致荷兰阿斯麦控股（ASML）及部分美国半导体公司股价下跌。需要明确的是，相关设备为DUV（深紫外），而非极紫外（EUV）光刻机。
报道引述知情人士称，该企业整合了包括上海宇量昇科技有限公司（Shanghai Yuliangsheng Technology）在内的国内研发团队，并与新凯来（SiCarrier）等存在关联。公司计划2026年生产约5台浸没式DUV设备，2027年增至约20台，首批拟交付给中芯国际（SMIC）、华虹半导体和长鑫存储（CXMT）。
中芯国际自2025年9月起已在测试宇量昇的浸没式DUV设备。该设备单次曝光主要面向28纳米级工艺，通过多重曝光技术理论上可尝试7纳米，在较低良率下接近5纳米。设备大部分零部件已实现国产化，但仍有部分关键部件依赖进口。其性能大致相当于阿斯麦约2008年前后的Twinscan NXT:1950i水平。
另据行业媒体跟进，中国在EUV光刻机领域仍处于早期原型阶段，距离量产尚远。目前ASML继续垄断商业化EUV设备，相关出口限制依然有效。
消息影响下，周一美股开盘后，阿斯麦股价一度下跌约4.8%至6.6%，超威半导体（AMD）、英伟达（Nvidia）、美光科技（Micron）等芯片股同步走低。
需要指出的是，部分中文报道（包括法广相关稿件）将此次进展误称为“EUV光刻机量产”，属于技术概念混淆。DUV与EUV是两种不同波长、不同难度的光刻技术，中国当前推进的是DUV国产化，而非EUV量产突破。相关公司目前均未公开回应《The Information》的报道。
